传统的机械清洗、水清洗、溶剂清洗等清洗方法清洗不彻底，工业plasma去胶机器被处理材料表面有纳米到几十纳米的残留物，焊接和器件粘接性能...在工业生产中，产品的可靠性要求并不严格，使用过程中会有一定的清洗残留物，但随着精度和可靠性要求的逐渐提高，越来越多的微电子厂商正在寻找新的表面清洗方法，常压等
