IC半导体它的主要生产制程是在50年代以后发明的，山东常压等离子处理机定制起初是由于集成电路的各种元器件及连接线很精细，那么在制程过程中就容易出现灰尘，或者有机物等污染，极其容易造成晶片的损坏，使其短路，为了要排除这些制程过程中产生的问题，在后来的制程过程中导入了等离子设备进行前处理，利用真空等离子
