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培养皿等离子去胶(培养皿等离子去胶机器)培养皿等离子去胶设备

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图 3. : 上述反应机理是等离子体. 一个简单的示意图, 其中产生的氧基团攻击吸附在表面上的碳氢化合物. 许多其他机理包括氧的各种激发态如自由基态和二价分子都存在. 吸附在表面的疏水物质被等离子体激活. 由等离子体内部的电子碰撞激发, 从而提供了额外的可行反应路径. 等离子体表面处理的应用医学.