等离子体表面处理机的关键机理是利用等离子体中活性粒子的激发作用，半导体蚀刻工艺有几种去除物体表面的污渍。等离子清洗机工艺的特点是加工金属、半导体材料、氧化物质和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯甲烷、环氧树脂胶，甚至聚四氟乙烯等都可以实现整体、局部和复杂结构的清洗。随着科学技术的飞速发
