因为晶圆清洗是半导体制造过程中重要且频繁的工艺，半导体等离子体表面清洗设备其工艺质量将直接影响到产品的良率、设备的功能和可靠性，因此国内外企业、研究机构等对清洗工艺的研究一直在不断开展。等离子清洗机作为一种先进的干洗技能，具有绿色环保的特点，随着微电子工业的快速发展，等离子清洗机在半导体行业的应用也
