2015年，亲水性材料的润湿角是美国佐治亚理工学院赫斯研究组报告，利用等离子体表面处理器低温下气体等离子体刻蚀的方安刻蚀铜、金、银材料。在传统的Cu刻蚀中，Cl2气体等离子体与之在高温下反应生成CuCl2，在后续工艺中去除。而Hess课题组报道，利用低温(10℃)下的H2气体等离子体刻蚀，在ICP的
