钝化层介电材料蚀刻使用单一的光刻胶为拖膜，喷粉附着力检查蚀刻气体为[F]基气体，通常是CF4和CHF3或CH2F2的组合并伴有一些稀释气体，等离子工业清洗机通过优化蚀刻气体比例、等离子体的源功率和偏置功率以及温度的方式调节侧壁轮廓角度、尺寸和等离子蚀刻深度的均匀性。铝垫的金属蚀刻：铝金属蚀刻通常使用
