由于功函数低，人工晶体的亲水性和疏水性正常 ITO，由于需要使用渐进功函数，可以使用准13.56MHz频率的VP-R3低温等离子发生器进行改进。。低温等离子发生器通常是指在机械装置或部件的表层上人工制造出与部件本身材料不同的具有基本物理和有机化学性质的表层的制造工艺形式。目前，低温等离子发生器常用的
