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二氧化硅蚀刻机(氢氧化钠刻蚀二氧化硅模板的条件)

二氧化硅蚀刻机(氢氧化钠刻蚀二氧化硅模板的条件)

通常情况下,氢氧化钠刻蚀二氧化硅模板的条件氢气作为放电气体参与反应引起还原反应,如清洗金属表面的氧化物,材料表面的氧化物与放电产生的氢离子发生反应。水。氧气主要利用其氧化作用去除零件表面的有机物。以氧气为气体进行反应,发生氧化反应,氧气电离产生的氧离子将材料表面的有机物氧化,生成二氧化碳和水。非反应