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二氧化硅等离子体刻蚀(二氧化硅等离子体表面清洗)

二氧化硅等离子体刻蚀(二氧化硅等离子体表面清洗)

工件表面上的污染物,如油脂、通量,胶卷,脱模剂,冲压油,等等,很快就会被氧化成二氧化碳和水,并将由真空泵抽离,从而达到清洗的目的和改善表面渗透和附着力。低温等离子体处理只涉及材料的表面,二氧化硅等离子体表面清洗不影响材料的性能。由于等离子体清洗是在高真空条件下进行的,等离子体中各种活性离子自由路径长