因此，uv打印漆面附着力对氢氟酸的使用，需要兼顾硅沟槽的清洗效果和浅沟槽隔离氧化硅的损耗。 锗硅的外延生长对硅沟槽表面性质非常敏感，很容易形成各种外延缺陷。因此对硅沟槽等离子清洗机设备干法蚀刻后的灰化工艺选择就变得非常关键。灰化工艺不仅要去除残余光阻，还要得到纯净的硅表面以利于锗硅的外延生长。灰化工
