原理：等离子体清洗处理器在清洗物体时是通过气体在磁场的作用下，uv表面丝印提高附着力在刺激下与物体表面发生物理或化学反应，从而达到清洗的目的。清洗表面与等离子体和表面处理设备密切相关。简单地说，清洁表层就是在处理过的材料表层上做一层新的薄膜。这种薄膜中的孔洞肉眼看不见，可以大大增加溶液材料的面积，间
