因此，led支架plasma清洗设备应选用等离子体工作蒸汽，如用氧等离子体设备处理表面油污，用SELECT H2、Ar混合气体等离子体去除氧化层。(3)电离功率:增强电离功率，增加等离子体密度和活性粒子能量，从而增强去污功能。例如，氧等离子体设备的密度与电离功率密切相关。(4)接触时间:等离子体设备
