曲线拟合结果表明，cobplasma刻蚀机AR等离子体处理样品的CS高能端峰减少，低能端峰增加，整个CLS峰的能谱变宽，处理后产生新的基团。 .这些可能的基团主要包括CO、C-OH、CO、O-CO、CF-O等含氧基团。 AR等离子体处理后F2311表面的含氧基团显着增加。 AR等离子体处理也可以引入
