抽真空速度越快，附着力检测单位背底真空值越低，说明残余空气越少，铜支架与氧等离子体反应机会越少；当工艺气体进入时，形成的等离子体能与铜载体充分反应，反应物容易被非激发态工艺气体带走。铜支座清洗效果好，不易褪色。2.真空等离子体处理系统电源功率对铜支架清洗效果及变色的影响；真空等离子体处理系统功率的相
