此类源的去除通常在清洗过程开始时进行，附着力最好的油漆主要是用硫酸和双氧水;3)铁、铜、铝、铬、钨、钛、钠、钾、锂等半导体工艺中常见的金属杂质，其来源主要有:各种器皿、管道、化学试剂、半导体晶圆加工、半导体晶圆加工，在金属互连的过程中，也会产生各种金属污染物。二、引线框架等离子体表面处理器的表面处理
