随着现代半导体技术的发展，衡阳大气宽幅等离子清洗机腐蚀要求越来越高，多晶硅片等离子清洗设备满足了这些要求。设备稳定性是保证制造过程稳定性和再现性的关键因素之一。等离子清洗机是多功能等离子表面处理设备，可配备等离子、蚀刻、等离子化学反应、粉末和其他等离子处理等多种组件。等离子清洗剂对多晶硅片有极好的蚀
