Ar/Cl等离子体的偏大的磁滞回线偏移量表明其下层固定层被严重腐蚀，国标规定腻子附着力是多少而CH3OH比Ar ICP更小的磁滞回线偏移量也表明了CH3OH等离子清洗机等离子体蚀刻中化学反应的存在。这种化学反应形成的含碳薄膜层可吸收入射离子能量，从而减少等离子体损伤(PID)。研究进步发现，反应式离
