.并且应用范围更广。研究表明，等离子体技术处理挥发性有机物的局限铜种子层的理想沉积温度低于150°C，以形成几纳米厚的均匀连续的铜膜0-1。除了用还原性更强的二乙基锌和三甲基铝代替氢与铜前驱体反应，实现铜膜的低温沉积（这种反应体系可以降低沉积温度）。可以，但锌和铝）更常用的方法（领先铜膜性能差）该方
