超光滑硅片等离子处理器表面处理研究： 等离子处理器可以溅射去除加工变质层，好的等离子体期刊降低表面粗糙度，提高硅片表面清洁度和表面能.调优后的参量证实，经等离子处理器清洗的硅片比未经等离子体处理的硅片镀膜后损耗平均降低34.2ppm，并且显示出良好的一致性。近年来随着半导体技术和光学技术的飞速发展，
