表面的化学反应可以产生活性化学基团。由于它们的高活性，硅片等离子蚀刻机这些化学基团具有广泛的用途，包括改善表面键。材料容量、提高焊接能力、粘合性、亲水性等诸多方面。因此，等离子清洗已成为清洗行业的主流和趋势。近日，硅片等离子蚀刻机中科院物理所研究员黄青与某公司的研究团队合作发现，利用低温等离子体处理
