该设备通过使用气体并选择性地控制温度、喷嘴位置、宽度和速度等工艺参数，硅片等离子体清洁设备有效地利用这些塑料薄膜类材料，而无需使用其他物质进行清洁、再生或涂层。在磁场的作用下，硅片等离子体清洁设备碰撞产生等离子体，同时发射辐射。等离子体在磁场中穿过空间，撞击待处理的表面，从而从表面去除油和氧化物。灰
