半导体等离子体清洗机在晶圆清洗中的应用等离子清洗机不能去除碳和其他非挥发性金属或金属氧化物杂质。等离子体清洗机常用于光刻胶的去除过程中。在等离子体反应体系中引入少量氧气。在强电场作用下，溶剂胶附着力促进剂的作用氧气产生等离子体，使光刻胶迅速氧化成挥发性气体状态，抽走物质。等离子清洗机在除胶过程中具有
