因此，曝光显影蚀刻工艺不良应有针对性地选择等离子体的工作气体。例如，使用氧等离子体去除物体表面的油脂和污垢，或使用氢氩混合气体等离子体去除氧化层。 (3)放电功率：通过提高放电功率，等离子体的密度和活性粒子的能量增加，清洗效果提高。例如，氧等离子体的密度受放电功率的影响很大。 (4)暴露时间：待清洗
