是目前最彻底的剥离式清洗方法，半导体湿法刻蚀市场其最大的优点是清洗后没有废液，最大的特点是对金属、半导体、氧化物和大部分高分子材料都能进行很好的处理，可以实现整体和局部及复杂结构的清洗。。除了气体分子、离子和电子等离子体是中性的电子的原子或原子团,这些组织受到激发态能量,它们是自由基,和等离子光,在
