等离子体与晶片表面的二氧化硅层表面相互作用后，晶圆等离子体去胶设备活性原子和高能电子破坏并移动原有的硅氧键结构。由于变成非桥键，表面被活化（活化），与活性原子的电子键能向高能方向移动，表面存在大量悬空键，产生这些悬空键. 增加。键以 OH 基团的形式结合。它的存在是为了形成一个稳定的结构。在有机或无
