低温等离子体处理原理主要包含三个方面：第一，抗裂砂浆的附着力等离子体表面清洗作用。由于等离子体是由真空室中气体辉光放电产生的，因而含有许多“活性”组分，包括：处于高速运动状态下的高能电子，电离导致的离化状态下的原子和分子，处于激活状态下的中性原子、分子、原子团等，未反应的原子
