本文的主要内容是等离子清洗的机理和低温等离子技术的清洗过程。 1. 概述 电子工业中的清洁是一个广义的概念，半导体干法刻蚀设备介绍包括与去除污染物相关的过程，但清洁方法因对象而异。目前，电子行业广泛采用的物理和化学清洗方法，从工作方式上大致可分为湿法清洗和干法清洗两种。湿法清洗广泛用于电子行业的生产
