这种氧化膜不仅会干扰半导体制造中的许多步骤，四川等离子低温处理机而且它还含有某些金属杂质，这些杂质会在某些条件下移动到晶圆上并导致电气缺陷。该氧化膜的去除通常通过浸泡在稀氢氟酸中来完成。将等离子表面处理机应用于等离子晶圆清洗工艺，具有工艺简单、操作方便、无废液处理、无环境污染等优点。然而，碳和其他非
