除四氟化碳(CF4)外，表面附着力检验方法氢(H2)、氮(N2)、氧(O2)、氩(Ar)等是等离子体清洗机常用的工作气体。等离子体清洗过程中容易与金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料发生反应。其中，物理反应机理是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物从表面分离，最后通过真空泵吸走；其化学反应机理是各种活
