表面的清洗主要是使空穴传输层（如PEDOT）或发光聚合物(LEP)与ITO紧密接触。ITO表面必须具有良好的润湿性（亲水性），亲水性矿物微粒的组成是以确保完整的像素填充和均匀的覆盖。此外，在LEP沉积前增加ITO的功函数可以大大改善电荷向有机层的输运。需要控制像素存储槽边缘结构的表面，以防止喷墨分配
