等离子器具涵盖颗粒、有机物和黄金金属和氧化物等离子设备涵盖颗粒、有机物、金属和氧化物。等离子器件的颗粒主要是一些聚合物、照相物和蚀刻杂质。这些污染物通常主要依靠范德华引力吸附到晶片表面。这会影响器件光刻工艺中几何图案的形成和电气参数。这些污染物去除方法主要使用物理或化学方法对颗粒进行底切，云南等离子
