等离子体表面处理（点击查看详情）放电形成的等离子体包括电子、正离子、亚稳分子和原子等，二氧化硅等离子蚀刻当等离子体与被清洗物体表面接触时，一方面利用等离子体表面处理或等离子体活化的化学活性物质与材料表面的污物进行化学反应，例如，等离子体表面处理中的活性氧与材料表面有机物反应，氧等离子体与材料表面有机
