广东芳如达科技有限公司 2022-12-01 11:51:28 80 阅读
低温等离子体处理会在高分子材料表面引入大量官能团,cobplasma去胶机器如利用各种非聚合气体(O2、H2、Ar)在材料表面形成-OH等基团,改变高分子材料的表面性质。低温等离子体表面处理器是在外加电压条件下,通过分解惰性气体(N2、O2、CO等)分子,将-OH、-NH2等基团、离子、原子引入材料表面,或直接在材料表面生成自由基的技术方法。
对于C2烃产率,cobplasma去胶机器当能量密度为350kJ/时当C2产率提高到2200k.J/mol时,C2产率由5.7%提高到20.6%,提高了约15个百分点。CO产率方面,当能量密度从350kJ/mol增加到2200kJ/mol时,CO产率从11.6%提高到76.4%,提高了近65个百分点。这说明在实验所考察的能量范围内,能量密度的增加有利于提高C2烃和CO的产率。
可以看出,cobplasma去胶在相同的实验条件下,上述十种催化剂与等离子体等离子共通等离子体对甲烷气体和co2转化率的影响与单独等离子体不同(分别为26.7%和20.2%)。NiO/Y-Al2O3与真空等离子体吸尘器联用时,甲烷和co2的转化率较高(分别为32.6%和34.2%),而Co2O3/Y-Al2O3和ZnO/Y-Al203的转化率较低(分别为22.4%和17.6%),前者分别比后者高10.2%和16.6%。
马利克等人。和盖瑟等人。分别在脉冲电晕等离子体和无声放电等离子体下实现了二氧化碳与CH4的复合。由CH4和CO2直接法制备C2烃。反应可以在微波、电流柱放电和射频等离子体的作用下实现。Liu采用He作为平衡气体(占总气体流量的60%~80%)的流动柱排放。在一定的放电功率下,cobplasma去胶根据二氧化碳与CH4摩尔比的不同,甲烷转化率在20%~80%之间,二氧化碳转化率在8%~49%之间,C2烃产率在20%~45%之间。
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。以CH_4和CO_2为原料气的C_2烃在等离子体等离子体下的重整反应;由CH4和CO2合成C2烃是一个非常有意义的反应。CO2加氢完全还原产物为CH4,部分还原产物为C2烃。其次,CH4的完全氧化产物为CO2,部分氧化产物为C2烃,中间产物为CHX。显然,这两种反应对彼此来说是可逆的。如果CH4和CO2共活化,即CO2的存在有利于CH4的部分氧化,CH4的存在抑制CO2的深度还原,有利于C2烃的生成。
大气低温等离子体计的进口压力为86~106kPa。如果压力过低或过高,则将泄压表的压力调整到此范围。检查气管关节是否漏水,气管是否损伤。如果损坏,请用损坏的气管替换泄漏的接头。如果您对等离子清洗机感兴趣或想了解更多详情,请点击在线客服咨询,等待您的来电!。常压低温等离子体发生器作用下不同类型催化剂的催化活性;乙烯、乙炔和少量甲烷是常压低温等离子体发生器和催化剂共活化CO2进行乙烷氧化反应的主要产物。
例:H2+e→2H*+e-H*+非挥发性金属氧化物→金属+H2O从反应公式可以看出,氢等离子体可以通过化学反应去除金属表面的氧化层,清洁金属表面。物理清洗:以物理反应为主要表面反应的等离子体清洗,也叫溅射蚀刻(SPE)。例:Ar+e→Ar++2E-Ar++污染→挥发性污染Ar+在自偏压或外加偏压作用下加速产生动能,然后轰击被清洗工件表面,一般用于去除氧化物、环氧树脂溢出或微粒污染物,同时激活表面能。。
等离子体表面处理与电晕机表面处理的区别;1.等离子体表面处理除辉光放电外,还包括光伏放电,产生的能量更强,可达到52达因以上的附着力,而电晕机一般只能达到32-36达因的附着力。2.电晕机可以处理宽幅和附着力要求不是很高的数据,如布料、薄膜、塑料薄膜等物。而等离子体表面处理的宽度一般只有单喷嘴50mm,需要多喷嘴组合才能完成宽幅处理。手柄宽幅费用会高一些,但待遇不错。。
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发布日期:2022-12-01 11:51:28