广东芳如达科技有限公司 2023-06-15 09:14:27 103 阅读
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常压等离子体清洗机在微电子IC封装工业中有很大的应用和发展前景。它的成功应用依赖于工艺参数的优化,如工艺压力、常压等离子体清洗器产生等离子体的激发频率和功率、时间、仪器气体种类、反应室和电极配置、工件清洗位置等。在半导体制造的后期,由指纹、助焊剂、焊料、划痕、污渍、灰尘、树脂残留物、自然氧化、有机物等产生。设备材料表面会形成各种污渍,显著影响包装生产和产品质量。
(2)孔壁凹蚀/孔壁树脂钻孔污染的去除:用于FR-4多层印刷电路板处理,CNC钻孔后孔壁树脂钻孔去除污染物等物质通常用浓硫酸、铬酸、碱性高锰酸钾和等离子处理。但是,在去除柔性印刷电路板和刚挠结合印刷电路板上的钻孔污渍的过程中,由于材料性能的差异,使用上述化学处理方法时效果并不理想。使用等离子去除污垢并在孔上进行回蚀将使您获得更好的孔粗糙度。它有利于孔金属化和电镀,同时具有“三维”回蚀刻的连接特性。
成品在使用过程中,点火瞬间温度升高,会在粘接面微小间隙产生气泡,损坏点火线圈,严重时甚至发生爆炸。点火线圈骨架经过等离子处理后,不仅可以去除表面难处理的挥发油渍,还可以大大提高骨架的表面活性,即可以提高骨架与环氧树脂的结合强度,避免气泡,同时还可以提高缠绕后漆包线与骨架触点的焊接强度。这样,点火线圈在生产过程各环节的性能明显提高,可靠性和使用寿命延长。
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发布日期:2023-06-15 09:14:27