典型的等离子体物理清洗工艺是反应室内氩气作辅助处理的等离子体清洗；氩本身是惰性气体，附着力的润滑油等离子体氩不与表面发生反应，而是通过离子轰击清洁表面。典型的等离子体化学清洗工艺是氧等离子体清洗。等离子体产生的氧自由基非常活跃，容易与碳氢化合物反应生成二氧化碳、一氧化碳、水等挥发性物质，从而去除表面
