3) 贴保护膜前的处理硅片的表面非常明亮，附着力拉拔试验每会反射大量的阳光。因此，需要在保护膜上沉积反射系数小的氮化硅保护膜。通过使用等离子技术激活（活化）硅片表面，可以显着提高表面附着力。 2.等离子表面处理设备在使用（有机）溶剂的湿法清洁水平上具有九大优势。 1）等离子表面处理装置无需干燥或处置
