氧主要用于高分子材料的表面活化和去除有机污染物，附着力促进剂使用方法但不用于金属表面易氧化。氧等离子体和固体表面的相互作用,去除有机污染物表面的固体,固体,如金属、陶瓷、玻璃、硅,等等,还可以用等离子体处理系统处理样品表面,改善表面性质,如亲水/疏水性质,表面自由能,以及表面吸附/附着力等特点。真空
