学院派在EED方向的改进还有串联式ICP( Tandem)以及利用脉冲产生负离子然后经过Beam能量控制区形成中性粒子束蚀刻,超高附着力树脂不过后者的选择比是薄弱环节在IED方向原则上超高频射频源可以实现狭窄的离子能量峰,有助于高蚀刻选择比的实现,可是通常超高频射频会带来驻波效应等影响等离子体的均匀