等离子体清洗剂去除晶圆键合胶光致抗蚀剂等离子体清洗剂的应用包括预处理、灰化/光刻胶/聚合物剥离、晶圆凸块去除、静电去除、介质蚀刻、有机污染去除、晶圆减压等。使用等离子清洗机，铜片等离子体表面改性不仅可以彻底去除光刻胶等有机物，还可以使晶圆表面活化增厚，提高晶圆表面的润湿性，使晶圆表面更具黏附性。等离
