等离子表面处理机等离子清洗去光刻胶： 芯片表面的残胶、金属离子、有机物和残留的空气污染物在半导体元件的加工过程中都会产生，附着力促进剂 1120为了防止空气污染物对芯片的生产加工造成较严重的危害，在芯片的生产制造过程中，芯片生产需要多道清洗工序，等离子表面处理机等离子清洗设备是芯片光刻胶等污染物去除
