随着半导体工艺的发展，电晕处理温度电晕技术在集成电路制造中得到了广泛的应用。离子注入、干法刻蚀、干法脱胶、UV辐射、薄膜沉积等都可能引入电晕损伤，而常规WAT结构无法监测，可能导致器件早期失效。低温电晕处理器技术广泛应用于集成电路制造中，如低温电晕处理器刻蚀、电晕增强化学气相沉积、离子注入等。具有方
