）提高IP胶表面的粗糙度，胶表面附着力进而提高去离子水润湿IP胶表面的均匀度，防止IP胶润湿性带来的显影缺陷。在处理等离子清洗机表面时，IP胶的厚度会因等离子轰击而损失。在进行等离子体轰击时，应考虑等离子体轰击引起的IP膜厚度损失。经等离子体清洗机表面处理后，IP胶厚度由处理前的564.4nm降至5
