等离子体清洗机在半导体晶圆清洗工艺中的应用等离子体清洗机晶圆级封装预处理设备等离子清洗机具有工艺简单、操作方便、不处理废物、不污染环境等优点。等离子体清洗机常用于光刻胶的去除过程中。在等离子体反应体系中引入少量氧气。在强电场作用下，附着力促进剂 尼龙氧气产生等离子体，使光刻胶迅速氧化成挥发性气体状态
