1、颗粒和等离子加工设备中的分子主要是一些复合材料、光刻胶等蚀刻中的杂质。这些污染物通常主要通过范德华重力吸附到片材表面，颗粒亲水性从而干扰组件光刻工艺的几何形状和电气参数。这种去污主要是通过物理或化学的方法将颗粒底切，逐渐减小与晶圆表面的接触面积，最终达到去除的目的。 2、等离子处理器机油，包括（
