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硅片等离子清洁机(硅片等离子体表面清洗设备)

硅片等离子清洁机(硅片等离子体表面清洗设备)

等离子处理设备静电场分布的相应因素包括电极配置、蒸汽循环和不锈钢产品放置。不同的加工材料、工艺要求和容量要求对电极结构的设计也不同。气流的方向形成了一个影响等离子体运动、反应和均匀性的气场。产品的布局是静电场和气场的特点。这导致不平衡的能量分布、高局部等离子体密度和衬底的烧毁。除上述因素外,硅片等离