已开发出等离子聚合、等离子蚀刻、等离子灰化、等离子阳极氧化等全干法工艺技术。等离子清洗技术也是干墙进步的成果之一。与湿法清洗不同，硅片等离子体蚀刻机器等离子清洗机制是依靠物质在“等离子状态”下的“活化”来达到去除物体表面污垢的目的。由于当今可用的各种清洗方法，等离子清洗可以是所有清洗方法中最彻底的剥
