在石英管中形成电离氧、氧离子、氧原子、氧分子、电子等混合物形成辉光柱。活性原子氧能迅速将残留胶体氧化成挥发性气体，硅片刻蚀深度0.3mm用什么设备可挥发除去。随着现代半导体技术的发展，对刻蚀加工的要求越来越高，多晶硅片等离子刻蚀清洗设备也应运而生。产品稳定性是保证产品制造过程稳定性和再现性的关键因素
