此外，真空等离子表面处理机品牌由于工艺始终由人在洁净室进行，半导体晶圆不可避免地受到各种杂质的污染。根据污染物的来源和性质，大致可分为四类。氧化物暴露在氧气和水中的半导体晶片表面会形成自然氧化层。这种氧化膜不仅阻碍了半导体制造的许多步骤，而且含有一些金属杂质，在一定条件下会转移到晶圆上形成电缺陷。这
