这可能是由于放置一段时间后新引入的亲水基团潜入材料表面造成的。该反应降低了材料表面的亲水性。因此，疏水性和亲水性的气硅用途为防止对等离子处理过的表面造成损伤，应在规定时间内进行接枝、粘合等处理，以保持和充分利用矫正效果。等离子体中含有大量的电子、离子、激发原子、分子、自由基等活性粒子。这些活性粒子与
